ArFab 100 氩离子抛光仪/CP离子研磨抛光仪

裕隆时代向用户提供性能优越的ArFab100氩离子抛光仪，为电镜、电子探针、原子力显微镜样品进行无损截面制备。

适用范围：新能源材料、非常规能源、半导体、芯片、制药等行业。
 

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大尺寸切抛合一的纳米加工系统                             
 
性能优势
 

• 一套系统兼具离子平面抛光和离子切割功能，操作简捷
•  动态离子切割技术，实现样品的往复平移和旋转，最大切割长度达10mm，有效减少投影/遮挡效应
• 超大平面抛光装载尺寸25x25mm（直径X高度），为原位试验等大尺寸样品试验提供可能
• 能量0.5-10KV连续可调，既可满足低能区减少非晶层，又可兼顾高能区，大幅提高制样效率
• 10英寸彩色触屏，全中文图像用户界面，方便快捷的参数设置，可远程控制

 
 

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样品适用性
 

• 无论软硬，多孔或致密，脆性或韧性，热敏感，或非均质多相复合型材料，都可获得高质量无损切割界面

 
 

• 切割模式采用独创的微型多轴动态离子切割台，样品切割长度可达10mm

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应用案例
 

• 离子平面抛光后的页岩截面，揭示样品表面纳米级孔隙，左图为无机孔，右图为有机孔。SEM图像，石油地质。

 
 

• 离子切割后的手机柔性屏幕内部结构和材料特征。半导体领域

 
 

• 离子切割后的电池材料截面，揭示其内部结构。左图为电池阳极几篇，右图为电池隔膜。SEM图像，能源材料领域

 
 

• 左图：离子切割后芯片内部结构，右图：离子平面抛光后芯片内部结构。SEM图像，半导体芯片领域。

 
 

• 平面抛光后LED焊盘结构。SEM图像，半导体光电领域

 
 

• 低电压平面抛光后的合成材料EBSD结构。EBSD图像，新材料领域。

 
 

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技术参数

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离子枪
离子枪	配备两支独立离子枪，可选单枪或双枪模式
加速电压	0.5-10KV连续可调
工作束流	0.5-7mA连续可调
抛光速率	200um/h（10KV，硅样品）
样品台
抛光样品尺寸	25X25mm（直径x高）样品台
切割样品尺寸	50x10x35mm（长x宽x高）
旋转速度	10-3600/S
抛光角度	0-200连续可调
真空系统
真空系统	两级真空，无油涡旋干泵，支持80L/S涡轮分子泵
工作真空	9X10-5 mbar
极限真空	5X10-7 mbar
真空规	全量程（常压到高真空）冷阴极真空规
用户界面	10英寸触屏，中文操作界面，简洁方便，可远程控制
电源要求	90-264VAC，600W

 

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北京裕隆时代科技有限公司
01062369061,  13693309125
email: sem@ylcorp.com.cn
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       裕隆时代，是专业致力于材料显微观测及微区分析的科学仪器及实验设备供应商，向科研人员提供高品质分析仪器和高附加值服务。帮助用户快速便捷地获取高质量的微观形秒图像、可靠的分析数据，助力中国科学技术发展。

       作为生产厂商，裕隆时代向客户提供性能卓越的LJ-18M磁控离子溅射仪、LJ-16离子溅射仪、ArFab100氩离子抛光仪、MAX-8000微区X射线荧光光谱仪、MCP100精密切抛一体机（精研一体机）、电解双喷减薄、离子减薄仪、精密金刚石切割机等实验设备，以及实验耗材（VACSEAL真空堵漏胶、原装预对中灯丝、导电胶、微栅铜网、电镜样品载物台等），全面满足科研人员对材料微观观测及分析要求。

       裕隆时代主要产品还包括FusionScope（SEM+AFM）（形貌、成分、力学、电学和磁学）综合原位分析系统、扫描电镜、台式透射电镜、TEM原位加热电学力学系统、纳米粒子发生器、EBIC电子束感生电流分析系统等。
 

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