氮化硅薄膜芯片

氮化硅(Si3N4)是一种无机非金属材料,具有高强度、高硬度、高耐热性、高耐腐性和低热膨胀系数等特点。氮化硅可以通过化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)等方法在衬底上形成均匀而致密的薄膜。这种薄膜可以作为透射电镜(TEM)的样品支撑平台,即所谓的氮化硅薄膜窗口。

氮化硅薄膜窗口通常由一个标准直径为3mm的衬底框架和一个中间有开孔的氮化硅层组成。开孔的大小和形状可以根据实验需求定制,一般为正方形或圆形,尽寸从几百纳米到几毫米不等。氮化硅层的厚度也可以根据实验需求调节,一般从10nm到500nm之间。这样,科研人员可以将样品放置在样品杆上,利用电子束穿透开孔并与样品相互作用,从而获取样品的图像和信息。

铂睿纳生物科技（上海）有限公司是一家从事生命科学解决方案的生物科技公司，代理众多国内外知名品牌设备。提供生命科学领域的分析产品；为高校、企业、科研机构提供科学的实验解决方案和技术服务。铂睿纳生物科技（上海）有限公司是一家从事生命科学解决方案的生物科技公司，代理众多国内外知名品牌设备。提供生命科学领域的分析产品；为高校、企业、科研机构提供科学的实验解决方案和技术服务。