无掩膜激光直写纳米光刻机

DALI是由Aresis、CENN  Nano  center  和  LPKF  联合研发的高精度无掩膜纳米光刻机，是一款性能稳定，操作简单，对环境要求低，界面友好，零维护的桌面型高精度激光直写设备。其采用的是AOD声光调制器来控制激光进行高精度光刻，可以实现优于80nm平滑的边缘结构，100-150nm最小结构间距，最高400nm套刻精度，是实验室级微纳加工与器件制作不二选择。DALI凭借优异的性能，目前已广泛应用到微电子、微器件、纳米光学、材料科学、自旋电子学等研究领域。

先进的AOD技术，定位分辨率优于0.1nm

• A. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘

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• B. 可高分辨调整特征结构间的距离

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• C. 可以实现亚微米级精细结构的构建

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主要特点：

# 最小特征结构小于1μm

# 针对I-line光刻胶进行优化（SU-8，AZ，……）

# 超快与超高精度定位，光斑定位分辨率＜1nm

# 可构建高深宽比结构（可达10:1）

# 12nm-1μm光斑间距调节以获得超高平滑度

# 100-150nm最小结构间距

# 最高400nm套刻精度

# 适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建

# 具备非平表面直写能力

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