离子溅射仪(磁控)
厂家:
型号:TZZN-1000
注明:本型号为磁控,与进口的差不多,适合客户放大倍数高,
此款TZZN-1000型小型磁控离子溅射仪主要用于SEM制样样品镀导电膜(如金膜)或材料镀膜,仪器性能稳定,操作简单方便。采用磁控冷态溅射,基本不升温,最大限度保护样品。
主要特点:
² 显示操作面为30°斜面,充分考虑操作的便捷和视觉体验,方便观察操作;
² 真空泵连接管路为金属波纹管,美观耐用;
² 微调阀调节灵敏准确,带有刻度标识;
² 真空泵抽速快,噪音低,适合实验室使用;
² 控制电路为控制板,工作稳定可靠;
² 显示控制操作部分布局合理,位于同侧,使用方便;
² 磁控冷态溅射,基本不升温,最大限度保护样品;
技术参数:
1.样品室空间:直径120mm×高110mm
2. Pt靶为标配,靶材尺寸:φ50mm×0.1mm
3.独立真空控制电路设计,实现真空度和溅射电流,安全互锁,可调最大电流40mA;
4.侵入式磁控低温离子源,可快速更换靶材,环绕暗区护罩;
5.使用独立计时控制器,精准计时,可调设置范围:1-500秒,连续可调
6.自动真空泄气功能,自动排气,可通过数字定时器进行控制
7.进口真空泵,抽速8.5m3/h,噪声不大于48dB,可置于抗震台上,全金属集成耦合系统
8.微型真空气阀:高精度微量流量阀,精度±0.1Pa
(参考外形,以实物为准)
电子在电场的作用下,飞向基片过程中与气体原子发生碰撞,使其电离产生出气体正离子和新的电子;新电子飞向基片,离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子借助于靶表面上形成的正交电磁场,被束缚在靶表面特定区域,增强电离效率,增加离子密度和能量,从而实现高速率溅射。
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选配无油真空系统
配件
耗材:真空泵油、靶材
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