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CIF-RIE反应离子刻蚀机
英文名称:ICP-RIE总访问:794
国产/进口:国产半年访问:42
产地/品牌:CIF产品类别:超声波清洗
型       号:RIE200/Plus 最后更新:2025-2-21
货       号:
参考报价:330000
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销售商: 华仪行(北京)科技有限公司 查看该公司所有产品 >>
  • 产品介绍
  • 公司简介
CIF推出RIE反应离子刻蚀机,采用RIE反应离子诱导激发方式,实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学,科研院所、微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低,性价比高,易维护,处理快速高效。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行RIE反应离子刻蚀。具体包括:
  • 介电材料(SiO2、SiNx等)
  • 硅基材料(Si,a-Si,poly Si)
  • III-V材料(GaAs、InP、GaN等)
  • 溅射金属(Au、Pt、Ti、Ta、W等)
  • 类金刚石(DLC)
产品特点:
 PLC工控机控制整个清洗过程,全自动进行。
 7寸彩色触摸屏互动操作界面,图形化操作界面显示,自动监测工艺参数状态,0~99配方程序,可存储、输出、追溯工艺数据,机器运行、停止提示。
 手动、自动两种工作模式。
 全真空管路系统采用316不锈钢材质,耐腐蚀无污染。
 采用防腐数字流量计控制,标配双路气体输送系统,可选多气路气体输送系统,气体分配均匀。可输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气等气体。
 具备HEPA高效过滤气体返填吹扫功能。
  • 符合人体功能学的60度倾角操作界面设计,操作方便,界面友好。
  • 316不锈钢、航空铝真空仓选择。
 采用顶置真空仓,上开盖设计,下压式铰链开关方式。上置式360度水平取放样品设计,符合人体功能学,操作更方便。
 有效处理面积大,可处理最大直径200mm晶元硅片。
  • 安全保护,仓门打开,自动关闭电源。
技术参数
型号 RIE200 RIE200plus
舱体内尺寸 H38xΦ260mm H38xΦ260mm
舱体容积 2L 2L
射频电源 40KHz 13.56MHz
电极 不锈钢气浴RIE电极,Φ200mm 不锈钢气浴RIE电极,Φ200mm
匹配器 自动匹配 自动匹配
刻蚀方式 RIE RIE
射频功率 10-300W可调(可选10-1000W) 10-300W可调(可选10-600W)
气体控制 质量流量计(MFC)(标配双路,可选多路)流量范围0-500SCCM(可调)
工艺气体 Ar、N₂、O₂、H₂、CF4、CF4+ H2、CHF3或其他混合气体等(可选)
最大处理尺寸 ≤Φ200mm
时间设定 1-99分59秒
真空泵 抽速约8m3/h
气体稳定时间 1分钟
极限真空 ≤1Pa
电 源 AC220V 50-60Hz,所有配线符合《低压配电设计规范 GB50054-95》、《低压配电装置及线路设计规范》等国标标准相关规定。
 
当等离子蚀刻应用涉及使用氧气作为工艺气体时,出于安全原因,强烈建议使用Edwards爱德华真空泵 RV3双级旋片泵或类似的合成油旋转机械泵。因为Edwards爱德华RV3双级旋片泵在泵科学应用方面已成为行业标准。当然,在需要避免使用油基旋转机械泵的地方,也可选择干式真空泵。
 
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售后服务
CIF经过多年积累,拥有专业的销售、技术及服务人员、高效的企业管理平台、以及良好的商业信誉,服务于新老客户,用户满意是CIF人的第一目标。
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