上海甄明科学仪器有限公司与Obducat一直保持着密切合作关系,如有需要可以致电咨询。
Obducat 技术适合于在 Si、SiO2、GaAs、InP 以及聚合物、陶瓷和金属基底等进行压印。
Obducat 公司主要专利技术
Soft Press Technology TM(SPT TM,软压技术)
Obducat 公司设计了在所有纳米压印系统中使用的 SPT TM 专利技术,这种技术可以进行整体
压印,能够在微米和纳米尺度进行有效的图案复制。Obducat 公司的 SPT TM技术通过气压而
不是刚性的活塞将压力施加到模版和基底上,可以不受基底尺寸和形状限制地确保全部压印
区域的压力一致,这对整体结构于高分辨率及高效节约的纳米压印完整性至关重要。
Simultaneous Thermal and UV Imprint(STU TM,紫外及热同时压印)
Obducat 公司所拥有的 STU TM 技术能够同时结合紫外和热进行纳米压印,在恒定的温度下
可以将完整的压印序列复制到紫外固化的热塑性预聚体(pre-polymer)。这种技术主要是为
了解决模版和基底材料之间不同热膨胀所引发的问题,可以让您在使用任一种基底和模版材
料时都能够高效节约地进行研究工作。
Intermediate Polymer Stamp™(IPS™ ,中间聚合物模版)
Obducat公司的IPS™专利压印技术可以通过两个步骤进行污染控制和增加模版的使用寿命,这可以避免模版与硬基底之间的接触。取而代之的是能够将模版上压印结构复制到目标基底上的一种软中间聚合物模版上,因此 IPS™专利压印技术极大地影响了与纳米压印相关的整体费用,使得我们的生产解决方案在市场上具有高效节约的优势。
Obducat 公司是首家将纳米压印和电子束刻蚀商业化生产的公司。如今我们是纳米压印领域的市场领导者,并且是世界上拥有的大型安装基地的纳米压印生产厂家。
纳米压印系统
Eitre ™ 3 / 6 / 8 - 用于研发的纳米压印系统
Eitre™纳米压印系统提供了灵活的并且高效节约的压印解决方
案。这一系统非常适合于研发方面的使用,可以获得微米和纳米
级的图案复制。Eitre ™纳米压印系统具有完整的压印方法,可以
使用热压印、UV 压印以及热和 UV 同时压印(STU ™)。
多功能和灵活的半自动零IL工具
薄而均匀的残余层能够同时执行紫外线和热零IL工艺
通过工具选项高度可自定义
广泛的紫外线模块选项,高达 400 mW/cm2
主要特点
- EITRE®纳米印迹光刻 (NIL) 工具提供了半自动化且经济实惠的平版印刷解决方案,允许在微距和纳米范围内进行图案复制。
- EITRE®工具特别多才多艺,因为具有多种印记处理功能和广泛的配置可能性。
- 易于使用的半自动工具,具有用户友好的界面。
- 嵌入式软压®技术可确保在整个印迹区域内实现出色的残余层厚度控制,实现准确的模式转移和简单的下游过程开发。
- 工具的灵活性允许使用各种印迹过程,如热浮雕、热零IL、紫外线NIL和Obducat独特的同时热和紫外线(STU®)工艺。
- EITRE®工具适用于固态照明、微光学和光子元件、生物医学和生命科学设备、芯片实验室、MEMS/NEMS 和半导体等应用领域的研发。
- 全区域印记。
- UV 模块可配置为基板级的强度级别为 50-400 mW/cm2。
- 根据欧洲安全法规和 CE 标志设计。
Obducat部分使用单位参考:
1. 北京大学(3 套)
2. 吉林大学超分子国家重点实验室
3. 华中科大武汉国家光电实验室
4. 河南大学
5. 复旦大学(2 套)
6. 苏州大学(2 套)
7. 厦门大学(2 套)
8. 大连理工大学
9.哈尔滨工业大学
10. 中科院物理所
11. 中科院化学所
12. 中科院半导体所
13.中国科技大学
14.香港城市大学
15.University of Cambridge
16. University of Glasgow
17.University of Surrey
18.University of Twente