CIF推出全新一代 CPC-G系列实验室型等离子体清洗设备, 颠覆传统等离子体清洗设备设计理念。具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积, 使用成本低, 性价比高, 处理快速高效, 特别适合于大学, 科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。
产品特点:
◆ 7 寸彩色触摸屏中英文互动操作界面,自动控制监测工艺参数状态,20 个配方程序,工艺数据可存储追溯。
◆ PLC 工控机控制整个清洗过程,手动、自动两种工作模式。
◆ 石英真空舱,真空管路系统采用 316 不锈钢材质,耐腐蚀无污染。
◆ 采用质量流量计,实现对气体输入精准控制,改变传统浮子流量计控制气体流量不准确问题。
◆ HEPA 高效过滤,气体返填吹扫,防止二次污染。
◆ 60 度倾角操作界面设计,符合人体功能学,操作方便,界面友好。
◆ 顶置真空舱,上开盖设计,下压式铰链开关方式,开关盖方便。
◆ 采用花洒式多孔进气方式,改变传统等离子清洗机单孔进气不均匀问题。
◆ 上置式 360 度自由水平取放样品托盘设计,符合人体功能学,操作更方便。
◆ 有效清洗面积大,可清洗最大直径 8 吋硅片。
◆ 安全保护,舱门打开,自动关闭电源。
技术参数:
型号 |
CPC-G |
CPC-Gplus |
射频电源 |
40KHz |
13.56MHz |
射频功率 |
0-600W |
0-150W |
匹配器 |
自动匹配 |
激发方式 |
电容式 |
气体控制 |
单路 MFC(可选两路) |
舱体尺寸 |
H100xΦ269mm |
舱体容积 |
5.6L |
舱体材质 |
石英玻璃 |
有效处理尺寸 |
Φ269mm 圆盘 |
时间设定 |
9999 秒 |
真空泵 |
抽速 4m³/h |
气体稳定时间 |
1 分钟 |
真空度 |
100pa 以内 |
电 源 |
AC220V 50/60Hz 752/302W |
产品尺寸 |
L425xW480xH445mm |
包装尺寸 |
L550xW630xH700mm |
整机重量 |
30kg |