超高分辨率电子束光刻EBL

超高分辨率电子束光刻EBL
Ultrahigh Resolution EB Lithography (CABL-UH series)

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供尖端 的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统。 

超高分辨率的电子束光刻CABL-UH系列的型号包括：
CABL-UH90 (90keV) 、CABL-UH110 (110keV) 、CABL-UH130 (130keV)

技术参数：
加速电压：最高130keV
单段加速能力达到130keV，尽量减少电子枪的长度
超短电子枪长度，无微放电
电子束直径＜1.6nm
最小线宽＜7nm
双热控制，实现超稳定直写能力

上海银雀科技成立于 1998 年，成立以来一直专注于半导体工艺设备、微纳米加工平台等领域的设备集成供应和技术服务。MEMS、3D 封装、化合物半导体、微波器件、功率器件等众多领域。目前公司已经与众多微电子、半导体设备行业的国际知名企业建立了良好的合作关系；EVG（光刻、键合）、Bruker（微纳检测）、TESCAN（扫描电镜） 是其中几家重要的合作伙伴。