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原子力显微镜探针广泛应用于半导体晶圆表面特征测量、刻蚀掩膜、磁介质、 CD/DVD 检测、生物材料、光学以及其它领域大直径样品（直径可达200mm），同时可以对样品表面进行纳米尺度的刻蚀和加工。扫描范围100um*100um，分辨率0.3nm。
能够准确地观测样品表面纳米尺度的三维形貌，同时可对样品表面物理化学特性进行研究，如表面表面电势、磁场力、静电力、摩擦力和其他表面力的测量。扫描范围100um*100um，分辨率 0.03nm 。
用原子力显微镜和/或扫描隧道显微镜对Kapton聚酰亚胺和高模量聚酰亚胺(PPT)薄膜在600~3000℃的不同温度下进行碳化和石墨化处理，以跟踪热处理温度(HTT)对其大尺度形貌和原子结构的影响。在原始的Kapton薄膜上，分子的局部顺序被提到了最前面。随着HTT(600~1000°C)的增加，结构变得更加无序，而在更大的尺度上出现了凹凸不平的形貌。石墨化过程中，凹凸不平的形貌逐渐消失，取而代之的是石墨化梯田，其尺寸随HTT的增大而增大。在原子尺度下，在1800~2400°C处理的薄膜上，石墨烯层在1800°C以上逐渐长大，含有点缺陷的石墨烯层被成像和(√3×√3)。R在大缺陷附近观察到30°的上层建筑。在2400°C和2600°C处理的样品上，观察到了莫尔纹，并将其归因于叠加断层(涡旋结构)
在原子力显微镜中，通过改变扫描端的振动频率，提取了均匀复杂表面上层建筑的纳米力形貌。另一种具有相似或更好对比度的耗散地形最近通过映射(x,y)依赖型尖端阻尼但具体的阻尼机理尚不清楚。在这里，我们确定了两种不同的尖端耗散机制：局部机械柔度和迟滞。在最近的数据激励下，我们用一个一维模型描述了这两种情况，即无公度覆盖层的Moiré上层建筑。“孤子”缺陷处的局部软度会产生比相应密度或波纹对比度大得多的耗散对比度。然而，在实际的低振动频率下，孤子由尖端引起的非线性跳跃导致了更强、更有效的耗散，自然地发展了双稳态和迟滞现象。提出了该机制的特征进行实验识别。
利用计算机模拟和用调频技术获得的AFM实验数据，研究了动态原子力显微镜(AFM)针尖与样品之间的保守力和耗散力。这样就可以从实验数据中重建出完整的力-距离曲线和阻尼系数-距离曲线，而无需使用相互作用力的拟合参数，也不需要使用解析的相互作用模型。并与分析方法进行了比较，提出了一种由实验数据确定阻尼系数曲线的方法。结果包括当接近样品时，振动尖端的第一个排斥接触点的确定。利用在特高压中用硅针尖和云母样品获得的实验数据，证明了针尖与云母相互作用的定量能力。
上海展悦电子科技有限公司
郑小姐
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