实验室纳米研磨机

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研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或冲击力（impactforce）将粉体由大颗粒粉碎成小颗粒。

分散：纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住，以便达到颗粒完全被分离（separating）、润湿（wetting）、分布（distributing）均匀及稳定（stabilization）目的。

实验室纳米研磨机是主要处理一些

可溶物(或互溶物)固体和液体加速溶解

     溶液中颗粒及脂肪球等超细破碎与均质

          不相溶的固-液相悬浮物超细混合分散

               动物和植物组织的超细破碎及浆化加工

                   不相溶的液-液相溶液包容性微细乳化

                         纳米材料团聚物的强力解聚与超细分散,

                                高粘度物料粉-液整体混合与超细分散,

实验室纳米研磨机的结构 

由胶体磨,乳化分散机组合而成的高科技产品。

   第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

   第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

实验室纳米研磨机的参数和

CMD2000/4（LP系列）为实验室研磨分散机的技术参数：功率4KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 50 升/小时（水），重量40KG,尺寸 (长宽高）(450X250X350)MM，LP使用轴封（PTFE 环），在正常的情况下，一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用，一般最多可以使用连续半个小时，这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块，可以实现多功能多用途。是实验室最佳选择。

CMD2000/4（PP系列）为研磨分散机的技术参数：功率4 KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s，电压380V,机器产量为 0– 50 升/小时（水），重量55KG, 尺寸 (长宽高）((450X250X350)MM，PP使用双机械密封，可24小时不停机连续生产，并通冷媒对密封部分进行冷却。通过变换模块，可以实现多功能多用途。机械密封和机械设计符合3A健康标准，是中试和小批量生产的最佳选择。

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