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纳米研磨机
英文名称:总访问:4839
国产/进口:进口半年访问:36
产地/品牌:德国/IKN产品类别:均质/粉碎
型       号:CMD2000/4 最后更新:2024-10-8
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销售商: 上海依肯机械设备有限公司销售部 查看该公司所有产品 >>
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纳米研磨机,纳米研磨设备,德国纳米研磨机,进口纳米研磨机是过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎纳米级别

 

纳米研磨结构 

机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

纳米研磨记得主要应用

锂电池正负极浆料的超细分散   电路板基材浆料粉液超细分散

高粘度物料粉液超细混合分散    纳米材料团聚物超细解聚分散

 

 

 

4、应用范围

电子电池:锂电池正极浆料、锂电池负极浆料、电路板基材浆料

纳米材料:超细碳酸钙、白炭黑等纳米材料解聚、纳米粉体应用固-液分散

精细化工:热熔胶、密封胶、胶水、絮凝剂、表面活性剂

生物医药:药膏、软膏、霜剂、注射剂、微胶囊乳剂、填充剂分散

 

纳米研磨机的眼膜效果 

影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

 

2 胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)

3 胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4  物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

 

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 

 

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 

纳米研磨的参数型号 

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和最终产品的要求。
 
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